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等離子去膠機(jī)適用于硅基半導(dǎo)體及化合物半導(dǎo)體前后道的等離子體去膠設(shè)備，可用于光刻膠灰化/殘膠去除和表面處理，設(shè)計(jì)緊湊占地面積小，設(shè)備穩(wěn)定可靠、易于維護(hù)、產(chǎn)能高。等離子去膠機(jī)使用的影響因素：(1)調(diào)整合適的頻率：頻率越高，氧氣越容易電離形成等離子體。如果頻率太高，使得電子的振幅比其平均自由程短，則電子與氣體分子碰撞的概率會......

等離子清洗機(jī)利用這些活性成分的特性對樣品表面進(jìn)行處理，以達(dá)到清洗等目的，廣泛應(yīng)用于等離子清洗、蝕刻、等離子電鍍、等離子鍍膜、等離子灰化和表面改性。通過它的處理，可以提高材料表面的潤濕能力，使多種材料可以進(jìn)行涂層、電鍍等操作，增強(qiáng)附著力、結(jié)合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油或油脂。等離子清洗機(jī)的工作原理：利用工作氣體在電磁場的......

聚對二甲苯涂層系統(tǒng)是通過化學(xué)氣相沉積法制備的具有聚二甲撐苯撐結(jié)構(gòu)的聚合物薄膜的統(tǒng)稱，它有極其優(yōu)良的電性能、耐熱性、耐候性和化學(xué)穩(wěn)定性。它是采用真空熱解氣相堆積工藝制備，可制成極薄的薄膜，主要用作薄膜和涂層，用于電子元器件的電絕緣介質(zhì)、保護(hù)性涂料和包封材料等。聚對二甲苯涂層系統(tǒng)的特點(diǎn)：1、合規(guī)：即也適用于復(fù)雜的基材輪廓，......

賽默飛X射線衍射儀是廣泛使用的X射線衍射分析儀器。主要用于樣品相的定性或定量分析，晶體結(jié)構(gòu)分析，材料結(jié)構(gòu)宏觀應(yīng)力測量，晶粒尺寸測量，結(jié)晶度測量等。根據(jù)實(shí)際需要，各種特殊功能附件以及相應(yīng)的控制和計(jì)算機(jī)軟件構(gòu)成具有特殊功能的衍射儀。賽默飛X射線衍射儀的基本原理：根據(jù)布拉格衍射原理，通過晶體對X射線的衍射，獲得樣品內(nèi)部原子的......